佳能推出-MPAsp-FPD-曝光设备

本文分析了佳能中国官方宣布将于2024年6月上旬推出新品MPAsp-E1003H，这是一款支持使用第6代玻璃基板的FPD曝光设备。据介绍，该产品采用了投影光学系统，能够实现1.5μm（L／S）的高分辨率，并且一次曝光幅度扩大约1.2倍，从而进一步提升生产能力。相比之前的MPAsp-H1003H，这款新产品能够在一块玻璃基板上实现更高效的生产，例如用于生产智能手机面板等产品的曝光次数从6shot降至4shot，大幅提升了生产性能。

MPAsp-E1003H还采用了先进的技术，如支持多点同时测量的对位方式、非线性补正REI模块和超分辨率技术的照明模式切换机构，这些技术保证了高精度的曝光。同时，该产品还配备了曝光狭缝自动调整机构和可自由选择玻璃基板纵横方向的universechuck，使其能够适应各种制造工序的曝光需求，包括生产车载横向大型特殊显示器时可以实现无接缝2shot曝光。

最终，佳能表示，MPAsp-E1003H通过强化制造工序的工艺应对能力，使制造质量更加稳定，提升了量产效率。这款新产品的推出将有望在平板显示器领域带来创新和进步。

佳能曝光机采用了DUV深紫外线通信方式。

根据查询相关资料信息，在佳能的FPD曝光设备中，新产品首次搭载使用了DUV深紫外线波长的新光源，通过DUV深紫外线波长通信方式进行通信，所以，佳能曝光机采用了DUV深紫外线通信方式。