光刻机

根据IT之家5月8日的报道，英特尔最近宣布已成功安装了世界首台商用高数值孔径，HighNA，EUV光刻机，这台耗资约3.5亿美元，约合人民币25.23亿元，的巨大设备将在今年内正式投入使用，据TheE...

本文分析了佳能中国官方宣布将于2024年6月上旬推出新品MPAsp，E1003H，这是一款支持使用第6代玻璃基板的FPD曝光设备，据介绍，该产品采用了投影光学系统，能够实现1.5μm，L／S，的高分辨...

IT之家5月27日消息，Rapidus美国子公司RapidusDesignSolutions负责人亨利・理查德，HenriRichard，近日表示，Rapidus的首代工艺将不采用HighNAEUV光...

本文经AI新媒体量子位（公众号ID:QbitAI）授权转载，转载请联系出处。 国内自主芯片产业，刚刚迎来一个坏消息： 美国再次向荷兰施压，阻挠芯片光刻机生产商ASML向中国出口光刻机。 这一次还不只最...